离子注入技术是一种重要的掺杂技术，通过高能量离子将原有半导体晶格中的原子击出后，在热能的帮助下取而代之，从而改变半导体材料的导电特性并最终形成所需的器件结构 。离子注入工艺已经被广泛应用于现代集成电路的制造中，成为半导体工艺中最常见的掺杂技术。离子注入机是实现离子注入的设备，其设备维修涉及物理、电气、机械、机电一体化、自动控制等多门学科知识 。
离子注入机的离子束生成系统用于产生并引出正离子，是离子注入机的核心部件 。离子注入机的工作过程为：离子源将掺杂元素电离为带正电荷的离子，由吸极把离子从源中提取出来，经过磁分析器分离，把所需的离子与其它离子分离出来，再由加速器将掺杂离子加速到所需能量，最后由聚焦扫描系统把离子注入半导体材料中 。离子注入机的离子束生成系统使用环境较为恶劣，故障率较高。如果离子束生成系统出现故障，整条生产线都会跟着停摆，因此，对其故障诊断与维修技术的研究具有一定的意义 。
离子注入机中，离子束从离子源到注入靶要经历较长的路径，这对于整个系统的真空度提出了较高的要求。如果真空度不够，则离子束将与系统内残余的气体分子发生级联碰撞，产生许多低能电子和派生离子，导致离子运动方向杂乱。这不仅对于离子束本身是一种污染，同时因为碰撞的随机性，使得离子束的能量统计出现偏差，表现出较高的能散度 。
离子注入对颗粒污染非常敏感，样片表面的颗粒会阻碍离子流的注入。通常注入的束流越大越容易产生更多颗粒，虽然注入后这些颗粒可以清洗掉，但其对注入的遮挡将在样品的注入层中产生一些致命的缺陷。大多数颗粒的产生是由其它工序或者环境因素导致的。因此，离子注入机在使用前需要进行严格的清洁和净化，以确保样品表面的洁净度 。
离子注入机的扫描系统有四种，分别是电子扫描、机械扫描、混合扫描以及平行扫描，其中最常用的是静电扫描系统。静电扫描系统由两组平行的静电偏转板组成，一组进行横向偏转，另一组进行纵向偏转。
